這次大會是由芬蘭PICOSUN公司和復旦大學主辦，南京大學、中國科學院上海技術物理研究所、上海納米技術及應用國家工程研究中心和我們北京正通遠恒科技有限公司聯合承辦，旨在方便中國科研工作者交流分享ALD技術的更新研究進展和相關領域的研究成果。

報告人介紹：
        張衛教授：1995年6月畢業于西安交通大學，獲博士學位。1995-1997年在復旦大學做博士后，1997年起任教于復旦大學，1999年晉升為教授。現任復旦大學微電子學系系主任、復旦-Novellus互連研究中心主任，“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”國家重大專項（02專項）總體組專家、上海市科學技術預見專家。在Applied Physics Letters、Journal of Applied Physics等期刊和會議上發表論文180多篇，申請15項，合作出版學術著作1部。曾獲得教育部二等獎。

　　研究方向：集成電路工藝、微細加工技術和半導體器件。具體包括（1）先進銅互連工藝研究。如超低k互連介質，新型超薄擴散阻擋層，以及納米尺度Via填充工藝等；（2）原子層淀積（ALD）工藝研究。如ALD高k柵介質，基于ALD工藝的高密度MIM電容等；（3）新型存儲器。如納米晶存儲器、RRAM等；（4）基于納米線和納米管的晶體管，以及隧穿場效應晶體管（TFET）等新結構器件研究。
李愛東教授： 1988年在浙江大學化工系獲學士學位。1988－1994年在哈爾濱工業大學應用化學系工作，1993年獲得化學系碩士學位。1996年獲南京大學物理系理學博士學位。1996年至今，在南京大學材料系工作，從事科研和教學工作。2000年香港理工大學的訪問學者，2005年加州大學伯克利分校訪問學者。入選2004年教育部新世紀人才計劃。主持和參與了國家自然科學基金、“973”、教育部、江蘇省和與國外公司的合作項目等多項課題。已在學術期刊上發表SCI論文90余篇。獲得中國發明10項。研究方向：化學法制備科學（溶膠凝膠法、金屬有機氣相沉積法、原子層化學沉積法）：薄膜生長工藝、動力學、機理和微結構；自聚集制備科學；集成鐵電學基礎：鐵電薄膜和柵介電薄膜與硅的集成；有機極化功能聚合物材料的制備與極化特性。
關于Picosun Oy
    　Picosun是一家致力于開發和生產原子層沉積系統（ALD）的公司。ALD主要應用于微米和納米技術方面。在芬蘭，Picosun公司連續擁有ALD反應器生產的專有技術已經長達三十多年。Picosun公司坐落于芬蘭的Espoo，其美國總部在底特律。使用SUNALE型ALD系統的用戶遍布，包括*高校與科研機構。

本文：http://www.jxsxgs.com