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CVD氣相沉積爐PX 0
NPE-4000PECVD/等離子增強化學氣相沉積系統PX 0
TF1200PECVD等離子增強化學氣相沉積系統PX 0
LCD系列斷線修復系統SEMISHARE LCVD系列激光化學氣象沉積修復系統PX 0
ECR-PECVD電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積PX 0
YZ-1020宇正YZ-1020不銹鋼腔體式多功能微波等離子體裝置PX 0
YZ-2030宇正YZ-2030大功率水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學氣相沉積裝置PX 0
YZ-2020宇正YZ-2020天線耦合石英鐘罩式微波等離子體化學氣相沉積裝置PX 0
頂立科技|碳材料熱工設備 碳碳/碳陶剎車盤制備系列設備PX 0
VCVD頂立科技|碳材料熱工設備 立式化學氣相沉積爐(碳化硅)PX 0
HCVD頂立科技|碳材料熱工設備 臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)PX 0
VCVD頂立科技|碳材料熱工設備 立式化學氣相沉積爐(沉積炭)PX 0
HCVD頂立科技|碳及碳化硅材料熱工設備 臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)PX 0
TF1200-PECVDPECVD石墨烯生長制備爐PX 0
WBDQC-4微波等離子化學氣相沉積系統,WBDQC-4,石墨烯,納米材料,鍍膜PX 0
WBQXCJ-4微波能化學氣相沉積系統、金屬材料和金屬合金材料,WBQXCJ-4PX 0
NPE-4000PECVD等離子增強化學氣相沉積系統PX 2456
MXGH1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統廠家PX 0
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MXGH1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統PX 0
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KJ-T1200-S6012LK1-3F1200℃高溫真空PECVD設備 化學氣相沉積爐PX 0
KJ-T1200-S60K-4C四路高溫真空CVD設備PX 0
KJ-T1200-S6012CK-3F5等離子體增強型化學氣相沉積系統 石墨烯快速生長爐 PECVDPX 0
BM8-III感應耦合等離子刻蝕及沉積系統(深反應離子刻蝕、等離子處理系統)PX 0
wayesvacPECVD等離子增強化學氣相沉積鍍膜設備PX 0
IL-50多艙體式等離子體增強化學氣相沉積/蝕刻系統 (PEVCD、ETCH、薄膜沉積)PX 0
IL-ICP深反應離子刻蝕及化學氣相沉積等離子處理系統 (蝕刻、沉積、等離子處理系統)PX 0
KJ-1200-S6014LK1-H等離子體增強型化學氣相沉積系統 雙溫區滑軌式PECVD系統PX 0
G-CVD石墨烯化學氣相沉積制備系統 (Graphene CVD)PX 0
KJ-1200-S6014LK1-HPECVD設備 化學氣相沉積爐PX 0
G-CVD石墨烯Graphene化學氣相沉積系統PX 0
SciCreate G-CVD石墨烯Graphene CVD制備系統PX 0
CY-O1200-60IT-3ZV10化學氣相沉積(CVD)生長高質量的石墨烯PX 0
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2456
NPE-4000(M) PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2456
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