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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機>MicroWriter ML3 直寫光刻機

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MicroWriter ML3 直寫光刻機

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上海麥科威半導體技術有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業的微納材料、半導體和微電子材料及器件研發儀器及設備的供應商,所銷售的儀器設備廣泛用于高校、研究所、以及半導體和微電子領域的高科技企業。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設立分公司和辦事處,快速響應客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,并設立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導體技術有限公司主要銷售產品包括:  - 霍爾效應測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結爐;  - 電子束蒸發鍍膜機,熱蒸發鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機; - 球焊機,鍥焊機;  - 磁控濺射鍍膜機;  - 原子層沉積系統,等離子增強原子層沉積設備;  - 電化學C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統; - 光學膜厚儀; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統-PLD-納米壓印;-等離子清洗機、去膠機;-反應離子刻蝕RIE; - 光刻機、無掩膜光刻機; - 勻膠機; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發機,化學沉積機,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業客戶:華為技術有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術, 安徽格恩半導體, 蘇州稀晶半導體科技, 矽品半導體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(常州),偉創力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團,西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導體材料, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風華技股份, 浙江中能合控股集團,固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學, 汕頭大學, 南方醫科大學, 清華大學, 北京大學, 復旦大學, 西北工業大學, 南京醫科大學, 香港中文大學, 香港城市大學, 蘇州大學, 深圳職業技術學院, 南京大學合肥國家試驗室, 上海交通大學醫學院, 華南理工大學,華東師范大學,江南大學,重慶26所, 深圳大學, 南方科技大學, 深圳技術大學, 理化技術研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學, 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農業協同創新研究院等。









半導體設備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機,光刻機

小型臺式無掩膜光刻機- MA1200


小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設計開發,為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供,但是在研發環境中,掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統,具有結構小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),無掩膜直寫系統的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。       

                                直寫光刻機         

                                                      

 產品特點 

Focus Lock自動對焦功能
Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。

光學輪廓儀
MicroWriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。

直寫光刻機

直寫光刻機

標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

直寫前預檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確。

直寫光刻機

直寫光刻機

簡單的直寫軟件
MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。

Clewin 掩膜圖形設計軟件
●  可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
●  可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
●  書寫范圍只由基片尺寸決定

直寫光刻機

直寫光刻機




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