HL 200 德國進(jìn)口OEG接觸角測量儀
- 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 HL 200
- 產(chǎn)地 德國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/4/24 16:43:41
- 訪問次數(shù) 109
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勻膠機(jī),光刻機(jī),顯影機(jī),等離子清洗機(jī),紫外臭氧清洗機(jī),紫外固化箱,壓片機(jī),等離子去膠機(jī),刻蝕機(jī),加熱板
測量精度 | ±0.1°° | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
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固定樣品臺大小 | 直徑200mmmm | 價格區(qū)間 | 面議 |
儀器類型 | 實驗室臺式 | 儀器種類 | 動態(tài)接觸角測定儀 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電氣 |
德國進(jìn)口OEG接觸角測量儀 HL 200專用于半導(dǎo)體表面特性分析,搭載±0.1°超精測量模塊與智能滴液系統(tǒng)(最小液滴0.2μl),1秒完成晶圓潤濕性檢測。360°全向掃描結(jié)合200mm真空載臺,無損定位超薄晶圓,精準(zhǔn)調(diào)控表面自由能,提升光刻膠結(jié)合力,降低缺陷率超30%。適配光刻膠開發(fā)、拋光液驗證等場景,確保5nm及更優(yōu)良節(jié)點良率。
高精度晶圓表面能分析系統(tǒng):HL 200 技術(shù)全覽
核心功能定位
專為半導(dǎo)體工藝研發(fā)的接觸角測量系統(tǒng),通過±0.1°級接觸角精度與0.2μl微量液滴控制技術(shù),實現(xiàn)晶圓表面自由能(SFE)的動態(tài)解析,直接優(yōu)化光刻膠附著力、旋涂均勻性及缺陷控制(<1μm線寬良率提升超30%)。
德國進(jìn)口OEG接觸角測量儀硬件架構(gòu)亮點
精密機(jī)械系統(tǒng):封閉式防塵結(jié)構(gòu)(400×300×300mm),集成特氟龍涂層晶圓臺(兼容200mm直徑),支持真空吸附與360°旋轉(zhuǎn)定位(x軸行程100mm)
光學(xué)成像模塊:500萬像素USB攝像頭+固定焦距物鏡,搭配7級可調(diào)LED環(huán)形光源,0.01°級角度分辨率
滴液控制系統(tǒng):5種配置可選(含雙自動滴液模式),手動三軸微調(diào)(x/y/z軸精度±0.1mm),最小液滴體積0.2μl(精度0.1μl)
測量效能突破
1秒快速檢測:實時高清視頻捕捉液滴形態(tài),自動計算接觸角并生成能值曲線
數(shù)據(jù)可溯性:Windows系統(tǒng)軟件同步顯示三維潤濕分析圖與歷史數(shù)據(jù)對比,支持異常波動預(yù)警
技術(shù)參數(shù)集
精度指標(biāo):分辨率0.01° / 重復(fù)性±0.1° / 絕對精度±0.1°
兼容規(guī)格:玻璃注射器&一次性魯爾鎖針頭 / ISO 5級潔凈環(huán)境適配
工藝驗證:成功應(yīng)用于12英寸晶圓產(chǎn)線,顯影缺陷率降低37%(45nm節(jié)點案例)
超微量分析:0.2μl液滴匹配微米級結(jié)構(gòu)表征需求,避免傳統(tǒng)μl級液滴對納米圖案的過度浸潤干擾;
納米級靈敏度:0.01°分辨率可檢測單分子層吸附變化,助力原子層沉積(ALD)工藝的界面調(diào)控;
工業(yè)級可靠性:封閉式防塵結(jié)構(gòu)符合ISO 5級潔凈度要求,支持24/7連續(xù)運行,年故障率<0.1%。