PHI ADEPT010 動態二次離子質譜儀D-SIMS|束蘊儀器
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- 公司名稱 束蘊儀器(上海)有限公司
- 品牌
- 型號 PHI ADEPT010
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2025/4/30 8:32:33
- 訪問次數 934
產品標簽
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動態二次離子質譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,簡稱D-SIMS)是一種用于固體材料成分分析的高靈敏度表面分析技術。
ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計,是大 多數半導體開發和支持實驗室的常用工具。通過優化的二次離子收集光學系統 和超高真空設計,提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。
工作原理:
動態二次離子質譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O??、Cs?、Ar?等)轟擊樣品表面,使樣品表面的原子或分子被濺射出來。在這個過程中,部分濺射出的粒子會帶電,形成二次離子。這些二次離子被收集并傳輸到質譜儀中進行分析,通過質譜分析可以確定樣品的化學組成和元素分布。