Sievers Boron Ultra在線超純水硼分析儀

簡介

Sievers Boron Ultra在線超純水硼分析儀能對超純水中硼濃度進行連續、無人值守的在線監測，靈敏度高達萬億分之一（ppt），每小時提供20個數據點。該儀器符合初級和拋光環路規范，有助于優化離子交換樹脂再生并控制二氧化硅和硼污染。其特點包括最少的維護需求和豐富的輸出套件，支持國際器件和系統路線圖（IRDS）設定的50 ppt硼限值，適用于半導體和微電子行業的超純水污染控制和合規性。

其它參數

濃度范圍：0.010-100 ppb B

定量限 (LOQ)：0.030 ppb B

檢測限 (LOD)：0.010 ppb B

最小樣品電阻率：15 MΩ-cm

樣品流速：50-400 mL/min

校準穩定期：一般為12個月

分析模式：在線、平均和在線定時

分析時間：3分鐘或6分鐘，由用戶定義

尺寸：54.2高x59.3寬x38深cm

重量：不含消耗品21.75 kg

對硼進行連續在線監測，靈敏度高達萬億分之一 (ppt)

隨著半導體芯片變得越來越小、越來越復雜，對高質量超純水（UPW）的需求也越來越高。即使是極其輕微的污染也會導致嚴重的缺陷，因此，在微電子制造過程中及早發現雜質至關重要。

有何風險？產品產量、下游工藝和不必要的成本。

Sievers Boron Ultra在線超純水硼分析儀可對超純水工藝中的硼濃度進行連續、無人值守的在線監測，靈敏度高達萬億分之一（ppt）水平。這有助于符合初級和拋光環路規范，并使制造商能夠優化離子交換 (IX) 樹脂床再生的時間。硼監測是最積極主動的IX過程控制策略，效果遠遠優于二氧化硅或離子污染監測。

優化在線性能和流程

Sievers Boron Ultra在線超純水硼分析儀可顯著降低運營費用，保持超純水系統的質量。

Boron Ultra可在二氧化硅泄漏前檢測到硼含量的增加，是防止膠體和離子二氧化硅滲漏到超純水中的關鍵工具。它可以用來預測混合床IX樹脂耗盡，優化電去離子（EDI）性能，并控制初級和拋光環路的污染水平。

Boron Ultra支持國際器件和系統路線圖（IRDS）為半導體超純水設定的50 ppt硼限值，支持硼和二氧化硅污染控制。

Sievers Boron Ultra在線超純水硼分析儀是與半導體制造商合作設計的，旨在滿足設備管理人員、超純水系統所有者和超純水工藝控制工程師的需求。硼監測是最為主動的離子交換過程控制策略，遠遠優于二氧化硅或離子污染監測。

萬億分之一 (ppt) 靈敏度

每小時20個數據點

符合初級和拋光環路規范

優化離子交換樹脂再生

二氧化硅和硼污染控制

Boron Ultra的特點與優勢

對硼進行連續在線監測，靈敏度高達萬億分之一 (ppt)

每小時20個數據點

符合初級和拋光環路規范

符合UKCA和CE標志的所有要求

多流路選項 - 提供單流路和雙流路

現代、直觀的圖形用戶界面，配備多色LED背光10.1英寸觸摸屏顯示器

豐富的輸出套件 - 兩個獨立的4-20 mA模擬輸出；兩個報警輸出；兩個獨立的二進制輸出；兩個USB 2.0端口；一個千兆以太網端口

最少的維護與耗材需求

應用 

半導體和微電子超純工藝 水 / 超純水

污染控制

合規性

樹脂再生的優化

過程控制