二手 日本電子 JSM-7610F plus場發射電鏡 掃描電子顯微鏡被廣泛應用在納米技術、金屬、半導體、陶瓷及醫學生物學等各種各樣領域里，而且它的用途越來越廣。為了對應在高分辨條件下的材料微細結構解析，提高JSM-7610F的分辨率，對電子光學系統做了重新研究。半浸沒式物鏡和大電流下高穩定性的in-lens熱場發射電子槍的wan美組合，使得該設備兼具超高分辨率觀察和高空間分辨率分析的能力。

二手 日本電子 JSM-7610F plus場發射電鏡主要特點

1.具有高分辨能力的半浸沒式物鏡（Semi-in-lens）

半浸沒式物鏡能將電子束收縮的很細，即使在低加速電壓下也能實現高分辨。

2.采用GENTLEBEAM™模式，低加速電壓下的Z表面觀察

GENTLEBEAM™模式（GB mode）是通過給樣品加以偏壓使得電子束在到達樣品前減速的功能來實現低加速電壓下的有效觀察和分析。

3.r-filter信號選擇

通過r-filter選擇樣品上產生的二次電子和背散射電子信號進行檢測。

4.LABE探頭（可選件）檢測低角度背散射電子像

LABE（Low Angle BE）探頭檢測低角度的背散射電子，在低加速電壓下能觀 察樣品表面的微細的凹凸信息，在高加速電壓下能觀察樣品的組成信息.

5.High Power Optics高能光學系統

大電流下高穩定性的in-lens熱場發射電子槍和全電流范圍內自動優化束徑的ACL的wan美組合，能夠進行穩定的觀察和分析.

主要技術規格

分辨率（SEI）	0.8nm（15kV） 1.0nm（1kV， GB模式） 能譜分析時，3.0nm（15kV、WD8mm、照射電流5nA）
倍率	×25～×19,000（LM模式） ×130～×1,000,000（SEM模式）
加速電壓	0.1kV～30kV
照射電流	數 pA～200nA
電子槍	In-lens熱場發射電子槍

本公司售后服務保障

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