型號/規格

SU8010

電鏡類型

冷場發射電鏡

簡介

場發射掃描電鏡可用于材料分析和研究，特別是材料斷口分析、微區成分分析、各種鍍膜表面形貌分析、層厚測量和顯微組織形貌及納米材料分析等。

指標參數

（1）二次電子分辨率：1.0nm(15kV)，1.6nm(1kV) ；

（2）加速電壓：≥0.1 ~ 30kV 

（3）電子束流：100nA，200nA 或20nA

（4）放大倍數：優于×30～×200000

（5）物鏡光闌：可調，加熱自清潔裝置

（6）樣品臺：三軸；傾斜：≥-3~700 ；旋轉：3600連續

（7）真空系統：真空度：電子槍室高真空：10-7Pa,；提供離子泵用專用UPS；樣品室真空：10-4Pa。

（8）聚光鏡：電磁透鏡會聚系統，束流強度可連續可調。

（9）電子光學系統

9.1電子槍：場發射電子槍

9.2電子槍和軸：自動

9.3工作距離：≥1.5mm~30mm

9.4聚焦：自動聚焦或手動聚焦。

9.5減速模式

9.6自動功能：自動聚焦、曝光、消像散

9.7能量過濾器。

（10）探測器及成像系統

高位二次電子探頭和低位二次電子探頭、背散射電子探頭。

（11）全自動離子濺射儀

濺射電流：0~40mA；靶鉑(Pt)或黃金靶

（12）能譜儀

分辨率127eV；探測器探頭 SDD；探頭有效面積：≥60平方毫米；探測元素 Be4--U92；提供全套分析軟件。

主要應用

場發射掃描電鏡可用于材料分析和研究，特別是材料斷口分析、微區成分分析、各種鍍膜表面形貌分析、層厚測量和顯微組織形貌及納米材料分析等。

樣品要求

樣品類型：無磁性、無揮發性材料