產(chǎn)品名稱：KMLabs諧波發(fā)生源XUUS 5

產(chǎn)品型號：XUUS 5

產(chǎn)品介紹

XUUS 5 將超快激光脈沖上轉(zhuǎn)換為光譜的極紫外 (EUV 或 XUV) 或軟 X 射線區(qū)域。采用 HHG 工藝，輸出光束繼承了驅(qū)動激光器（如 KMLabs RAEA）的相干特性，波長可在約 10 至 50 nm 之間調(diào)節(jié)。此外，定制系統(tǒng)可以生成波長短至 6 nm 的相干光束。XUUS 5 采用 KMLabs 的空心波導(dǎo)進(jìn)行高次諧波上轉(zhuǎn)換工藝。

XUUS 空心光纖或波導(dǎo)架構(gòu)使系統(tǒng)產(chǎn)生的諧波與其他 HHG 方法區(qū)分開來，保證諧波每次都來自空間中的同一點，更大限度地減少任何指向漂移。此架構(gòu)可優(yōu)化實驗的可重復(fù)性。此外，使用光纖（而不是典型的氣體噴射或semi-infinite氣室目標(biāo)幾何形狀）可為相位匹配 HHG 提供壓力可調(diào)性。現(xiàn)在，您可以選擇堅固性，而無需犧牲靈活性。

性能特點

l 空心波導(dǎo)中的高諧波轉(zhuǎn)換可實現(xiàn)轉(zhuǎn)換、穩(wěn)定性、可重復(fù)性和穩(wěn)健性。

l 對于苛刻的應(yīng)用，EUV 通量可以超過 1×10¹² ph/秒。

l 超穩(wěn)定的4軸主動光束穩(wěn)定，可產(chǎn)生與可見紅外激光器相當(dāng)?shù)?EUV 光束強度和波前穩(wěn)定性。

l 高平均功率處理能力推動下一代實驗。

l 用于性能監(jiān)控和對準(zhǔn)控制的診斷攝像機(jī)。

l 圖形化、直觀的軟件控制。

l 在溫度穩(wěn)定的平臺上進(jìn)行穩(wěn)定的工業(yè)光學(xué)安裝。

l 不斷增長的應(yīng)用專用光束線系列可為您的實驗提供量身定制的光子。

l 高度相干、類似激光的 EUV (XUV) / SXR。

l XUUS 系統(tǒng)配置可生成波長約為 6 nm 的軟 X 射線。

l 波導(dǎo)設(shè)計允許使用高壓氣體，同時將氣體用量降至更低：比氣體噴射幾何結(jié)構(gòu)少 1000 倍，效率提高 1000 倍。

l XUUS 輸出可針對不同的應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化：ARPES、成像、瞬態(tài)吸收、MOKE、XMCD。

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地：美國

波長范圍（~800nm 泵浦）：~10-50nm

通量：高達(dá) 10¹²ph/s/諧波

通量波動（>8 小時）：<5% RMS

指向波動（> 8 小時）：<5µrad RMS

尺寸：1200 mm L x 330 mm W x 176 mm H

光束高度：4.5”(114.3mm)

生成波長：約6 nm

光束穩(wěn)定：4軸

架構(gòu)：波導(dǎo)

波導(dǎo)：空心

產(chǎn)品應(yīng)用

光發(fā)射：tr-ARPES 和阿秒材料科學(xué)

納米電子學(xué)計量學(xué)和 EUV 光刻支持

高分辨率和時間分辨無透鏡納米成像

超快磁性材料和自旋電子學(xué)研究

磁性、材料、分子和納米系統(tǒng)動力學(xué)的高空間和時間分辨率泵探測研究

分子動力學(xué)和阿秒科學(xué)