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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>CY-PECVD50-1200-Q 三溫區PECVD氣相沉積石墨烯制備

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CY-PECVD50-1200-Q 三溫區PECVD氣相沉積石墨烯制備

參考價 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發區,是一家專業從事材料制備設備研發、生產和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區域提純等研究發展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業知識和豐富的實踐經驗,先后研發出了多款*材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發,使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業界*好評。

如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業務洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

詳情介紹:

三溫區PECVD氣相沉積石墨烯制備由等離子發生器,三溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD), 該PECVD石墨烯薄膜制備設備借助13.56Mhz的射頻輸出等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在真空腔體內形成等離子體,利用等離子的強化學活性,改善反應條件,利用等離子體的活性來促進反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

在聚合物、陶瓷等基體材料中加入石墨烯可以顯著提高材料的機械性能、熱性能等。三溫區 PECVD 制備的石墨烯可以更好地控制其在基體材料中的分散性和界面結合強度。例如,在環氧樹脂復合材料中,將 PECVD 制備的石墨烯均勻分散后,石墨烯與環氧樹脂之間能夠形成良好的界面相互作用,從而提高復合材料的拉伸強度、硬度和熱穩定性,這種復合材料可用于航空航天、汽車制造等領域,用于制造高性能的結構部件。

三溫區PECVD氣相沉積石墨烯制備


三溫區PECVD應用范圍:

等離子增強CVD系統可以用于:石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所。可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、高duan裝飾等領域

 三溫區PECVD技術參數: 

產品名稱

三溫區PECVD氣相沉積石墨烯制備

產品型號

CY-PECVD50-1200-Q

三溫區管式爐

工作溫度:0-1100℃

控溫精度:±1℃

控溫方式:AI-PID 30段工藝曲線,可存儲多條

爐管材質:高純石英

爐管尺寸:φ50mm I.D x 1400mm L

加熱溫區:三溫區 200mm+200mm+200mm

密封方式:不銹鋼真空法蘭

極限真空度:4.4E-3Pa

射頻電源

輸出功率:0-300W zui大可調±1%

RF頻率: 13.56MHz,穩定性±0.005%

噪聲:≤55DB

冷卻:風冷

質量流量計

三路質量流量計

閥門類型:不銹鋼針閥

氣路數量:三路

承壓范圍:-0.15Mpa~0.15Mpa

量程

1~200 SCCM

1~200 SCCM

1~500 SCCM

流量控制范圍:±1.5%

氣路材料:304不銹鋼

管道接口:6.35mm卡套接頭

真空系統

配有一套分子泵系統,采用一鍵式操作

600L/S

水冷系統

CW-3200

電壓

220V 50H



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