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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>CY-PECVD-240T-SS 等離子增強化學氣相沉積設備

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CY-PECVD-240T-SS 等離子增強化學氣相沉積設備

參考價 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發區,是一家專業從事材料制備設備研發、生產和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區域提純等研究發展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業知識和豐富的實踐經驗,先后研發出了多款*材料制備設備。主要產品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產品的生產和研發,使我公司的產品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產品。產品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業界*好評。

如果您正在被國貨的產品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業務洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

簡單介紹:

等離子增強化學氣相沉積設備采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜詳情介紹:化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
主要功能及特點:
等離子增強化學氣相沉積設備利用平板電容式輝光放電原理,將通入沉積室的工藝氣體解離并產生等離子體,被解離的基團在等離子體中重新發生化學反應,由于等離子體存在,促進氣體分子的分解、化合、激發和電離,促進反應活性基團的生成,從而降低沉積溫度,在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜。可根據工藝調節等離子體的密度和能量,控制薄膜的生長速率和微結構。
產品參數:


等離子增強化學氣相沉積設備



產品名稱

桌面式4英寸平板等離子體增強化學氣相沉積PECVD

產品型號

CY-PECVD-240T-SS

供電電源

AC220V 50Hz

射頻電源

信號頻率

13.56MHz

功率輸出范圍

0~500W (還可選擇150W, 300W, 1000W)

工作腔體

加熱溫度

RT-500℃(還可選擇600℃,800℃,1000℃等)

樣品臺尺寸

Φ100mm(兼容4英寸及以下樣品)

樣品臺轉速

1-20rpm 可調

腔體材質

不銹鋼

觀察窗

Φ60mm, 帶擋板

供氣系統

通道數

(可根據需要選擇其他通道數,其他氣體種類,其他測量范圍)

測量單位

質量流量計

測量范圍

通道: 0200SCCM for O2  

B通道: 0200SCCM for N2

C通道: 0200SCCM for Ar

真空系統

前級泵抽速

1.1L/s

分子泵抽速

60L/s

真空測量

復合真空計

真空度

5.0*10-3Pa

水冷機

水流速

10L/min

冷卻功率

50W/




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