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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>納米壓印設備> 納米壓印設備

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納米壓印設備

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詳情請搜索南京博創網站

南京博創半導體設備有限公司成立于2019年主體經營:1.半導體制造相關設備:鍵合/解鍵合設備/晶圓清洗設備/涂膠設備/剝離設備2.半導體用高清潔傳送設備:EFEM/Robot/Aligner/Porter3.納米印壓設備:8寸/12寸全自動量產設備和R&D研發設備4.FDP/PLP設備:SlitCoater+VCD+OVEN+UV解鍵合設備5.UV系列產品:UV Laser/Excimer UV燈/UVLED燈/牛尾-濱松-ORC照度計 所在地 :江蘇省南京市棲霞區(新港開發區)恒泰路6號



172nm準分子,臭氧發生器,照度計,Robot,EB照射器

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納米壓印設備對應的應用:1.AR/VR/MR;2.3D Sensor;3.WGP(無機偏光板);4.DNA Sequenser。

納米壓印設備對應的應用圖形:1.DOE圖形;2.Lens Array;3.斜面圖形;4.L&S圖形;5.蛾眼結構圖形;6.Retroreflrctor圖形。

流程:1.子模的生產(母模→子模)2.產品的制造(子模→產品)。

搬送Robot :Coater與 Imprint 2 peases

塗布材料:Primer?產品材料?Replica材料

清洗功能:Cup清洗?Edge清洗?背面清洗(PGMEA)

轉速:MAX 3000rpm±2rpm

加速度:MAX 10,000rpm/sec±5%

Option:2 工作單元(溶劑不可兼容時可追加一個工作單元)

Bake溫度:Max 250℃≦±5.0℃

Cool溫度:20~27℃(Chiller)

Option:2段(Tact對應)

UV light source:UV-LED 365nm(standard)

真空:50~100Pa、加壓0.1~0.9MPa

1972年 公司建立以來半導體制造設備 銷售業績1300臺以上FPD制造設備 銷售業績 800臺以上合計2,100臺以上的銷售業績并且在現地有成熟的售后服務體系




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