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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機> 實驗室光刻機

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實驗室光刻機

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實驗室光刻機

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       江蘇雷博科學儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以高檔專業的實驗室儀器開發為目標的海歸創業企業。2020年8月,江蘇雷博科儀通過資源整合,將雷博科儀中發展起來的的工業半導體設備業務分拆出來成立了江蘇雷博微電子設備有限公司。兩家公司使用同一品牌 ,獨立經營不同系列產品。公司主營高檔實驗室儀器及半導體設備開發業務。公司技術力量雄厚,人才濟濟,憑借雄厚的技術實力不斷進行新產品開發和創新實現,在納米薄膜制備類儀器領域取得了顯著的市場地位。公司生產的高精度高可靠性勻膠機榮獲江蘇省高新技術產品,是國內勻膠機全系列、多功能、定制化服務的供應商。
       公司生產和銷售不同領域的高檔科研儀器和工業半導體設備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、烤膠機、提拉機、噴膠機、涂膜機、狹縫涂布機等相關產品;LEBO science®是我們的工業半導體設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、蝕刻機、去膠機、清洗機等獨立柜式機臺及工業全自動機臺。
       公司產品被廣泛應用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機光電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導體及先進封裝等領域,具有核心技術可靠、高性價比、定制化服務的競爭優勢。 

       公司目前團隊人數80多人,業績和規模處于快速擴展期,2013年起年銷售額一直保持快速增長,目前正準備二輪融資擴產。公司生產廠房設有裝配潔凈車間及黃光試驗區,其中生產區域約1500平方米,辦公及倉儲區域約1000平方米。

勻膠機,烤膠機,涂膜機,狹縫涂布機,紫外清洗機,電解雙噴儀

  實驗室光刻機產品參數 :
 
  1.曝光面積:160mm*160mm
 
  2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
  3.對準精度:±1-1.5um
 
  4.光源強度:35mW/cm2
 
  5.UV光源:進口LED模塊
 
  6.曝光中心波長:365nm
 
  7.光源壽命:1萬小時,光源平行性:≤2°
 
  8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
  9.照度不均勻性:≤3%
 
  10.曝光設定:定時
 
  11.可執行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式
 
  12.間隙設定方式:數字設定曝光間隙0-1200um
 
  13.可調,可自動分離和消除間隙
 
  14.樣片、掩模版相對移動范圍:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
 
  15.掩模版找平方式:球氣浮自動找平
 
  16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
 
  17.標配承片臺:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
 
  18.標準配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
 
  19.對準系統:光學+CCD,顯微倍數:放大倍率:150倍-720倍可調
 
  20.雙物鏡可調距離范圍:30mm-120mm

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