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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>Batch Type 部件鍍膜設備

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Batch Type 部件鍍膜設備

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

高真空基礎In-line Sputter設備,其核心優勢如下:
高生產率:
該設備的一個完整生產周期僅需220~360秒,具體時間可能因產品而異。
工藝優化與品質提升:
我們對Sputter工藝進行了全面優化,從而顯著提升了產品的品質。
引入了Plasma Clean Sputter Plasma Cleaning工藝,有效增強了產品表面的附著力,進一步提升了產品品質。
精密儀器與設備耐用性:
設備采用了精密的儀器安裝工藝,確保了設備的穩定運行。
設備具有出色的耐用性,維護周期長,且維護費用低廉。
自主研發材料:
我們采用了自主研發的材料,相比其他公司的材料,我們的材料價格更為低廉。
使用自主研發的材料,我們成功提升了產品的品質,同時提高了生產效率,并優化了Arching等控制功能。
綜上所述,這款高真空基礎In-line Sputter設備以其高生產率、優化的工藝、精密的儀器安裝、出色的設備耐用性、低廉的維護費用以及自主研發的高品質材料,為相關行業提供了顯著的優勢和價值。

Chamber & Door∮800 * 1500, 2 Door, STS(SUS)304
Pumping System* RP + MBP + D/P
* Cryo cooled polycold unit
Cooling Devices* Cooling Traps for Pumping Unit
* Cooling Chiller for Cathode
Power Supply* DC Power (Sn, AL, NI, SUS, Sputter)
* Cooling Chiller for Cathode
Control UnitPLC, Touch Screen
Cycle Time4.5~6.5min (根據產品可能有所不同)





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