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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>其它薄膜沉積設備>KaLine 8V 部件鍍膜設備

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KaLine 8V 部件鍍膜設備

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

本裝置是在真空狀態中向產品外部涂層非導體的設備,在真空內產品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.


本設備采用真空技術,用于在產品外部涂覆非導體材料。在真空環境下,產品會進行自旋轉動,使涂層能夠均勻覆蓋整個表面,形成一定厚度的保護膜。這種真空涂層技術可以確保涂層的致密性和附著力,從而為產品提供耐磨、絕緣、防腐等功能。

具體來說,該設備由真空室、高速旋轉平臺和涂層噴淋系統等部件組成。產品放置在旋轉平臺上,在真空抽氣后,平臺以高速旋轉,同時對產品表面進行均勻的涂層噴灑。涂層材料在真空環境下能夠迅速附著并形成致密的膜層,厚度可以精確控制,以滿足不同產品的性能要求。這種真空涂層技術廣泛應用于電子、汽車、航空航天等領域,為產品提供保護性能。

與傳統的大氣壓涂裝相比,真空涂層技術具有明顯的優勢。首先,真空環境可以有效地排除空氣中的灰塵和雜質,確保涂層表面的潔凈度。其次,真空狀態下涂層材料的流動性和浸潤性大為提高,能夠更好地覆蓋產品表面的微小凹凸部位。此外,真空條件下涂層的固化速度更快,生產效率更高。總之,這種真空涂層技術為產品表面處理提供了一種高質量、高效率的解決方案。

設備構成Auto Inline 8 Chamber
到達真空3 x 10-6 Torr
排氣構成D/P + Poly Cold + MBP + RP
產品回轉滾輪驅動
Sputter TargetAL, SUS, Ni, Sn, Ti, Cr
Cycle Time1~3 min






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