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customized 全自動(dòng)硅料清洗機(jī)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

英思特全自動(dòng)硅料清洗機(jī)是一種高度自動(dòng)化的設(shè)備,專門用于硅料的清洗處理。它通過一系列精確設(shè)計(jì)的工藝流程和先進(jìn)的技術(shù),能夠高效地去除硅料表面的雜質(zhì)、污垢和污染物,以滿足半導(dǎo)體制造等對硅料高純度的要求。該清洗機(jī)通常由多個(gè)功能模塊組成,包括上料系統(tǒng)、清洗槽、漂洗槽、干燥系統(tǒng)等,各部分協(xié)同工作,實(shí)現(xiàn)硅料從進(jìn)料到出料的全自動(dòng)化清洗過程。

 

2. 設(shè)備應(yīng)用

· 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè):在半導(dǎo)體芯片制造的前端工序中,對硅晶圓等硅料進(jìn)行清洗,為后續(xù)的光刻、刻蝕、鍍膜等工藝提供潔凈的硅料表面,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在制造集成電路的過程中,硅料表面的任何微小雜質(zhì)都可能導(dǎo)致芯片缺陷,因此需要高精度的清洗。

· 光伏產(chǎn)業(yè):用于光伏電池生產(chǎn)中硅片的清洗,去除硅片表面的雜質(zhì)和污染物,提高硅片的光電轉(zhuǎn)換效率。比如,高效太陽能電池的生產(chǎn)對硅片的潔凈度要求很高,全自動(dòng)硅料清洗機(jī)能夠滿足這一需求。

 

3. 設(shè)備特點(diǎn)

· 高度自動(dòng)化:從上料到清洗、漂洗、干燥再到下料,整個(gè)過程實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化控制,無需人工干預(yù),大大提高了生產(chǎn)效率,降低了人工成本,同時(shí)也減少了人為因素對清洗質(zhì)量的影響。

· 定制化設(shè)計(jì):可根據(jù)客戶的具體需求和生產(chǎn)工藝進(jìn)行定制化設(shè)計(jì),滿足不同規(guī)格、不同類型硅料的清洗要求,以及與不同生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)線的無縫對接。

· 高效清洗能力:采用先進(jìn)的清洗技術(shù)和優(yōu)化的清洗工藝,能夠快速、有效地去除硅料表面的各種雜質(zhì),確保清洗后的硅料表面潔凈度達(dá)到很高標(biāo)準(zhǔn),為后續(xù)的生產(chǎn)工藝提供優(yōu)質(zhì)的基礎(chǔ)。

· 精確的工藝控制:配備高精度的傳感器和先進(jìn)的控制系統(tǒng),能夠?qū)η逑催^程中的各項(xiàng)參數(shù)(如溫度、時(shí)間、溶液濃度等)進(jìn)行精確控制和實(shí)時(shí)監(jiān)測,保證清洗工藝的穩(wěn)定性和一致性。

· 可靠的質(zhì)量和穩(wěn)定性:選用優(yōu)質(zhì)的材料和零部件,經(jīng)過嚴(yán)格的質(zhì)量檢測和驗(yàn)證,確保設(shè)備具有良好的耐用性和穩(wěn)定性,能夠在長時(shí)間的連續(xù)工作中保持穩(wěn)定的性能和可靠的運(yùn)行。

· 節(jié)能環(huán)保:在設(shè)計(jì)和制造過程中注重節(jié)能環(huán)保,采用高效的能源利用方式和環(huán)保的清洗溶液處理方法,降低設(shè)備運(yùn)行對環(huán)境的影響。

4. 產(chǎn)品參數(shù)(部分為例

以下參數(shù)僅供參考,實(shí)際參數(shù)可能因定制化需求和設(shè)備型號而有所不同。

· 清洗槽數(shù)量:通常有多個(gè)清洗槽,如 3 - 5 個(gè),分別用于不同的清洗步驟(如預(yù)清洗、主清洗、精清洗等)。

· 清洗方式:可包括浸泡式清洗、噴淋式清洗、超聲波清洗等多種方式相結(jié)合。

· 處理能力:每小時(shí)能夠處理一定量的硅料,例如 50 - 200 千克 / 小時(shí)。

· 溫度控制范圍:清洗槽的溫度可在一定范圍內(nèi)精確控制,如 30 - 80℃。

· 溶液循環(huán)系統(tǒng):具備高效的溶液循環(huán)和過濾系統(tǒng),確保清洗溶液的清潔度和有效性。

· 設(shè)備尺寸:根據(jù)生產(chǎn)場地和需求,設(shè)備的外形尺寸可能有所不同,一般長度在 2 - 5 米,寬度在 1 - 2 米,高度在 1.5 - 2.5 米。

· 電源要求:通常需要三相交流電,電壓如 380V,頻率 50Hz,功率根據(jù)設(shè)備型號和配置而定,一般在 10 - 30kW 之間。

 






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