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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>化學機械拋光機(CMP)>GNP POLI-PCB系列 CMP

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GNP POLI-PCB系列 CMP

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述:

G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發,操作簡單,成本低。

2. GNP POLI-1300PCB型CMP規格:

機頭,工作臺:30 ~ 120rpm,旋轉運動,機頭擺動范圍(20°)

尺寸:2000W 2600D 2500H mm

壓板尺寸:Φ1300 mm,陽氧化鋁壓板冷卻結構(不含冷水機)

封頭尺寸:Φ930毫米,陽氧化鋁

壓制方法:可變空氣壓力電子控制器25x25”或Φ900毫米的

PCB尺寸工藝:自動順序,干/濕搖臂刷護發素PLC程序和觸摸屏

應用程序

工件:大直徑762mm(30英寸),封裝基板     

 

3. GNP POLI-1300-PCB型CMP規格:

機頭,工作臺:30 ~ 120rpm,旋轉運動,機頭擺動范圍(20°)

尺寸:1650W 2100D 2500H mm

壓板尺寸:1016毫米(40英寸),陽氧化鋁壓板冷卻結構(不含冷水機)

封頭尺寸:760毫米,陽氧化鋁              

壓制方法:可變空氣壓力電子控制器20x20”或730毫米的

PCB尺寸工藝:自動順序,干/濕搖臂鉆石盤調理劑或刷調理劑PLC程序和觸摸屏

應用程序

工件:大直徑1000mm,封裝基板







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