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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>化學機械拋光機(CMP)>GNP GPC-300A 全自動CMP晶圓清洗一體機

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GNP GPC-300A 全自動CMP晶圓清洗一體機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

規格:

拋光機部分機頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉運動,機頭振蕩(±15mm)

拋光機尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSGTEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)STI、PGI

可添加選項

墊式調理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統

摩擦力和溫度監測系統

清潔:

清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內徑)320()毫米

配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:4化學

化學品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉站

旋轉速度:最高2500/

DIW沖洗/ N2(可選:)

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

程序控制:PC &觸摸屏監控,程序可編程,計算機網絡可比



1. 規格

拋光機部分機頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉運動,機頭振蕩(±15mm)

拋光機尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(WCu)、STI、PGI

2. 可添加選項

墊式調理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統

摩擦力和溫度監測系統

3. 清潔

清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內徑)320()毫米

配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:4化學

化學品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉站

旋轉速度:2500/

DIW沖洗/ N2(可選:強掃)

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

程序控制:PC &觸摸屏監控,程序可編程,計算機網絡可比



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