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PLD300 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1.產(chǎn)品概述

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。

2.設(shè)備用途:

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研。

3.產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):

可對化學(xué)成分復(fù)雜的復(fù)合物材料進(jìn)行全等同鍍膜,易于保證鍍膜后化學(xué)計(jì)量比的穩(wěn)定。

反應(yīng)迅速,生長快,通常一小時(shí)可獲得一定厚度的薄膜。

定向性強(qiáng)、薄膜分辨率高,能實(shí)現(xiàn)微區(qū)沉積。

生長過程中可原位引入多種氣體,對提高薄膜質(zhì)量有重要意義。

容易制備多層膜和異質(zhì)膜,通過簡單的換靶即可實(shí)現(xiàn)

4.真空室結(jié)構(gòu):

球形結(jié)構(gòu)

真空室尺寸:Ф300mm

限真空度:≤6.67E-5Pa

沉積源:Φ30mm,每次可裝4塊靶材,可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶位;每塊靶材可自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分;

樣品尺寸,溫度:1英寸,高800℃

占地面積(長x寬x高):約1.8米x0.97米x1.9米

電控描述:全自動

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤±5%



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