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PTP-300 等離子清洗和加熱機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 UNITEMP/尤尼坦
  • 型號(hào) PTP-300
  • 產(chǎn)地 德國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/9/5 11:33:05
  • 訪問次數(shù) 219
產(chǎn)品標(biāo)簽

半導(dǎo)體前道清洗

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1 產(chǎn)品概述:

    等離子清洗和加熱機(jī)是一種集等離子清洗與加熱功能于一體的先進(jìn)設(shè)備。它利用等離子體技術(shù),通過給氣體施加足夠的能量使其離子化,形成包含離子、電子、原子、活性基團(tuán)等活性組分的等離子體。這些活性組分在真空或特定環(huán)境下對(duì)物體表面進(jìn)行轟擊,實(shí)現(xiàn)清洗、除油、活化、改性等多種處理效果。同時(shí),通過加熱功能,可以進(jìn)一步提高清洗效果和速度,滿足不同工藝需求。

2 設(shè)備用途:

  1. 表面清洗:等離子清洗技術(shù)能夠高效去除物體表面的有機(jī)污染物、氧化物、油脂等雜質(zhì),且不會(huì)對(duì)材料本身造成損傷,保證材料表面的完整性和功能性。廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、航空航天、汽車制造等領(lǐng)域。

  2. 表面活化:等離子處理可以增加材料表面的粗糙度和活性,提高材料與其他物質(zhì)的粘附性,改善涂覆、印刷、粘接等工藝效果。

  3. 表面改性:通過等離子體的作用,可以改變材料表面的化學(xué)組成和分子結(jié)構(gòu),提高材料的生物相容性、耐腐蝕性、耐磨性等性能。

  4. 加熱處理:加熱功能可以進(jìn)一步提高清洗效果和速度,促進(jìn)物體表面的干燥,減少殘留水分,防止水垢和污漬的產(chǎn)生。同時(shí),加熱還可以促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,提高處理效果。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

1 高效清洗:等離子清洗技術(shù)具有高效、快速、均勻的特點(diǎn),能夠去除物體表面的各種污染物,保證清洗質(zhì)量。

2 無損處理:等離子清洗過程在真空或特定環(huán)境下進(jìn)行,不會(huì)對(duì)材料表面造成機(jī)械損傷或化學(xué)腐蝕,保證材料表面的完整性和功能性。

3 環(huán)保節(jié)能:等離子清洗過程中不產(chǎn)生廢水、廢氣等污染物,且能耗較低,符合環(huán)保要求。

4 多功能性:等離子清洗和加熱機(jī)集清洗、活化、改性、加熱等多種功能于一體,能夠滿足不同工藝需求。

5 自動(dòng)化程度高:設(shè)備通常采用數(shù)控技術(shù),實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作,減少人為干預(yù),提高生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性。

綜上所述,等離子清洗和加熱機(jī)是一種高效、環(huán)保、多功能的表面處理設(shè)備,在多個(gè)行業(yè)中具有廣泛的應(yīng)用前景。

4  設(shè)備參數(shù):

技術(shù)數(shù)據(jù) PTP-300

裝貨區(qū)域:

305 mm x 305 mm x 25 mm (過程區(qū)域)

腔室高度:

35 毫米

腔體材料:

/石英玻璃

腔體材料(可選):

鋁或石英玻璃工藝室(尺寸:305 x 305 x 26 mm

外尺寸:

600 mm x 1850 x 880 mm(寬 x x 高)

室:

集成進(jìn)氣口/默認(rèn)有 2 條氣體管路

燃?xì)夤芫€:

2 質(zhì)量流量控制器

真空:

DN25 KF真空法蘭

加熱:

24 個(gè)紅外燈(總計(jì) 18 kW

過程控制方式:

SPS控制器PP420(貝加萊),帶LCD顯示屏

保養(yǎng):

以太網(wǎng)

微波發(fā)生器:

用于等離子清洗或去除氧化物抗蝕劑 2.45 GHz,大 600 W100   W 600 W

冷卻:

需要水冷(水冷卻器可選)

權(quán)力:

3/N/PE;交流;50/60赫茲;230/400


相關(guān)分類

等離子體刻蝕設(shè)備


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