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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機>MS6-CA 手動光刻機

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MS6-CA 手動光刻機

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光刻機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

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1.基本概述
MS6-CA手動光刻機,作為一種手動操作的光刻設備,通過手調旋鈕來改變其X軸、Y軸和角度(如theta角)以完成對準。雖然其對準精度相對較低,但在某些特定的應用場景下,如小批量生產、研發實驗或教學演示中,仍然具有一定的應用價值。

2.主要特點

手動操作:MS6-CA光刻機采用手動調節方式,用戶可以通過旋鈕直接控制設備的移動和定位,無需復雜的程序控制。
靈活性高:由于采用手動操作,用戶可以根據實際需要靈活調整對準精度和曝光參數,適用于多種不同的應用場景。
成本較低:與全自動或半自動光刻機相比,MS6-CA手動光刻機的制造成本和維護成本相對較低,適合預算有限或需求量不大的用戶。
3.性能指標

雖然具體的性能指標可能因產品型號和生產廠家而異,但一般來說,MS6-CA手動光刻機的性能指標可能包括以下幾個方面:

支持基片尺寸范圍:根據設備設計,MS6-CA可能支持多種不同尺寸的基片。
分辨率:光刻機的分辨率決定了其能夠制造的電路圖形的小尺寸。MS6-CA的分辨率可能受到其物鏡設計和曝光方式等因素的限制。對準精度:由于MS6-CA是手動操作的光刻機,其對準精度可能相對較低,但仍能滿足一定精度的加工需求。
曝光方式:MS6-CA可能采用接觸式、接近式或投影式等不同的曝光方式,具體取決于設備的設計和應用需求。
4.應用場景

MS6-CA手動光刻機主要適用于以下場景:

小批量生產:在芯片制造、微電子器件生產等域,對于小批量或試制階段的產品,MS6-CA手動光刻機可以提供靈活且成本較低的解決方案。
研發實驗:在科研機構或高校實驗室中,MS6-CA手動光刻機可用于研發實驗和教學演示,幫助學生和研究人員了解光刻工藝的基本原理和操作技巧。
特殊應用:在某些特殊應用場景下,如需要處理非標準基片或進行特殊工藝的實驗中,MS6-CA手動光刻機也可能發揮重要作用。




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