Herent® Chimera® M 12英寸金屬刻蝕設備
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
- 品牌 魯汶
- 型號 Herent® Chimera® M
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/9/4 16:29:23
- 訪問次數 170
產品標簽
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1. 系統特性
Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備是面向12英寸集成電路制造的量產型設備
設備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）、去膠腔（strip chamber）、傳輸模塊（transfer module）構成
適用于0.18微米及其他技術代邏輯應用中的高密度鋁導線工藝，以及鋁墊刻蝕
2. 詳細介紹
Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備，為針對12英寸IC產業0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發的用產品， 同時也可應用于鋁墊（Al pad）刻蝕。該設備承襲了 Chimera® A 的先進設計理念，具有出色的均勻性調控手段， 可以為客戶提供高性價比的解決方案
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