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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>化學機械拋光機(CMP)>TDP-1200/1200A 雙面拋光機

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TDP-1200/1200A 雙面拋光機

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拋光機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

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1.  產品概述:

雙面拋光機是一種專門用于對材料兩面進行高精度、高效率拋光處理的機械設備。它廣泛應用于半導體硅片、磁性材料、藍寶石、光學玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的加工過程中,以提高產品的表面光潔度和精度。雙面拋光機通過上下兩個拋光盤的旋轉,利用摩擦力和磨料的作用,去除工件表面的毛刺、氧化層等雜質,從而達到拋光的目的。

2 設備用途/原理:

雙面拋光機的主要用途包括:

  1. 半導體硅片加工:在半導體行業中,雙面拋光機被用于硅片的雙面拋光,以提高硅片的表面平整度和光潔度,滿足后續工藝的需求。

  2. 光學玻璃加工:在光學領域,雙面拋光機能夠確保光學玻璃的兩面都達到光學精度,滿足精密光學儀器的要求。

  3. 金屬材料加工:對于金屬材料,雙面拋光機能夠去除表面的氧化層和毛刺,提高金屬件的表面質量和美觀度。

  4. 藍寶石加工:在藍寶石等硬脆材料的加工中,雙面拋光機能夠實現高效、高精度的拋光,滿足LED、藍寶石襯底等領域的需求。

3. 設備特點

雙面拋光機具有以下特點:

  1. 高精度:雙面拋光機能夠將對準精度提高多達20倍,這對于精密加工領域具有重要意義。它能夠確保工件的兩面都達到平整度和光潔度。

  2. 高效率:采用雙盤對磨的方式,能夠同時加工工件的兩面,大大提高了加工效率。此外,設備還具有自動進給功能,可根據加工進度自動調整拋光壓力和速度。

  3. 多材料適用:雙面拋光機適用于多種硬脆材料的拋光,包括半導體硅片、磁性材料、藍寶石、光學玻璃、金屬材料等,具有廣泛的加工適應性。

  4. 多工藝兼容:設備支持粗拋、中拋、精拋等多種拋光工藝,能夠滿足不同加工需求。同時,采用分段加壓控制,能夠根據不同工藝要求準確調整拋光壓力和速度。



綜上所述,雙面拋光機是一種高精度、高效率、多材料適用、多工藝兼容的拋光加工設備,在半導體、光學、金屬等多個領域具有廣泛的應用前景。



4 設備參數


規格/參數

TDP-1200

TDP-1200A

制程工藝

雙面機械拋光

雙面化學機械拋光

加壓方式

氣囊

氣囊

拋光壓力

Max1000 kgf

Max1000 kgf

上下拋光盤尺寸

OD1100 mm

OD1100 mm

游星輪規格

14B*6

14B*6

上下拋光盤轉速

0-70 RPM

0-70 RPM

內環轉速

0-115 RPM

0-115 RPM

外環轉速

0-40 RPM

0-40 RPM

外環升降








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