1.產(chǎn)品概述：

該設備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。

2.設備用途：

熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等域。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等

3.產(chǎn)品配置：

真空室結(jié)構(gòu):六邊形側(cè)開門

真空室尺寸:φ350×370mm

限真空度:≤6.6E-4Pa

沉積源:1個鎢舟、2個有機源

樣品尺寸，溫度:大可放置4片20mmx25mm的基片，基片不加熱，可自轉(zhuǎn)，速度5～20轉(zhuǎn)/分；

占地面積（長x寬x高）:約1米x1米x1.9米

電控描述:手動

樣品臺：可放置基片，并可能具有旋轉(zhuǎn)、加熱等功能，以滿足不同的工藝需求。例如，加熱功能可以使樣品達到一定溫度，適應某些材料的沉積要求；旋轉(zhuǎn)功能有助于提高薄膜的均勻性。

控制系統(tǒng)：采用先進的控制系統(tǒng)，方便用戶設置和調(diào)整工藝參數(shù)，如蒸發(fā)速率、沉積時間等。

多種材料沉積能力：可以沉積多種不同的薄膜材料，以滿足不同的應用需求。

良好的穩(wěn)定性和可靠性：確保系統(tǒng)能夠長時間穩(wěn)定運行，保證薄膜沉積的重復性和一致性。

可視化操作界面：可能具有直觀的操作界面，方便用戶進行操作和監(jiān)控。

不同型號的 SMART 蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)在具體參數(shù)和功能上可能會存在差異，例如真空度的高低、蒸發(fā)源的類型和功率、樣品臺的尺寸和可調(diào)節(jié)范圍、膜厚監(jiān)測的精度等。