1.產品概述：

該設備主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發源；樣品加熱控溫；電控系統；配氣系統等部分組成。該系統可與手套箱對接。

2.設備用途：

熱蒸發是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發高質量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等域。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等。

3.真空室：

真空室結構:方形開門

真空室尺寸:400×400×450mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:3個鎢舟、2個有機源

樣品尺寸，溫度:4寸，1片，高800℃

占地面積（長x寬x高）:約2.5米×1.2米×1.8米

電控描述:全自動

工藝:片內膜厚均勻性：≤±5%