1.產品概述：

本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。

2.產品優勢：

用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

該系統可用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料科研工作。

3.產品工藝：

真空室結構:梨形上升蓋

真空室尺寸:φ550×350mm

限真空度:≤6.6E-6Pa（經烘烤除氣后）

沉積源:永磁靶5套，φ2英寸配有多個靶位，例如 5 個 2 英寸磁控濺射靶接

樣品尺寸，溫度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃

占地面積（長x寬x高）:約3米×1.1米×2米

電控描述:全自動

工藝:片內膜厚均勻性：≤±3%