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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無掩模光刻機/直寫光刻機>VPG 300 DI 無掩模直接成像儀光刻機

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VPG 300 DI 無掩模直接成像儀光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準
產(chǎn)品標簽

高精度高分辨率

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

產(chǎn)品概述:

PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器,為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。它源自掩模制作工具,具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)組件,能夠以高的精度和準確度進行書寫。大寫入?yún)^(qū)域覆蓋 。

寫入模式

寫作表現(xiàn)



小特征尺寸 [μm]

0.5

0.8

小行數(shù)和間距 [μm]

0.8

1.2

地址網(wǎng)格 [nm]

4

8

邊緣粗糙度 [3σnm]

30

40

CD均勻度 [3σnm]

50

60

2鼈層對齊(全局)[nm]

100

130

寫入速度 [mm2/分鐘]

340*

1020*

*快速模式:680 2056 mm2/min,具有相似的性能,但沒有規(guī)格



100 x 100 mm 的曝光時間2面積 [min]

39

17

系統(tǒng)特點


光源

355 nm 的高功率 DPSS 激光器

大基板尺寸和寫入面積

300 x 300 毫米2

基板厚度

0 12 mm (可根據(jù)要求提供其他厚度)

大曝光面積

300 x 300 毫米2

自動對焦

實時自動對焦系統(tǒng)(光學(xué)和氣動)

自動對焦補償范圍

高達 80 μm

流量箱

(閉環(huán))溫控環(huán)境試驗箱

對準和計量

用于測量和對準的相機系統(tǒng)和軟件包

其他功能和選項

100150200 300 mm 晶圓的全自動處理和預(yù)對準。光學(xué)邊緣檢測、頂部對準以及可選的紅外和背面對準。Zerodur® 載物臺和高分辨率差分干涉儀

系統(tǒng)尺寸



系統(tǒng) / 電子機架

寬度 [mm]

2605 / 800

深度 [mm]

1652 / 650

高度 [mm]

2102 / 1800

重量 [kg]

3550 / 180

安裝要求


電氣

400 VAC ± 5 %50/60 Hz16 A3

壓縮空氣

6 - 10






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