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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>涂膠顯影設備>ACS300 Gen3 涂膠與顯影機

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ACS300 Gen3 涂膠與顯影機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

一個工具適用于所有先進的包裝應用

通過在一個系統中提供多種工藝技術,如光阻劑、聚酰亞胺和PBO涂層,ACS300 Gen3提供了高效率。它還為每個模塊提供了多達五種抗蝕劑或四種顯影劑的能力,以實現最佳的工藝靈活性。此外,通用的熱板設計消除了對不同抗蝕劑或PI類型的特定熱板的需要。ACS300 Gen3允許同時處理200和300毫米的晶圓,而不需要進行機械轉換。

一致的過程監控導致高產量

ACS300 Gen3可以實現高效的模塊堆疊,從而節省了潔凈室中昂貴的空間。多達12個模塊可以方便地在三層模塊系統中相互排列,而該工具的多種節省化學品的功能實現了進一步的節約。無論是SUSS MicroTec公司專有的GYRSET技術、新穎的分配技術還是化學品再循環系統,該工具都能經濟地使用化學品,并符合的可持續發展標準。

在吞吐量方面表現出色

當使用可選的第二個機器人系統時,ACS300 Gen3在三步流程中達到了高達240 wph的吞吐率。一個先進的過程控制系統優化了處理時間:調度算法可以有選擇地交換,以確保瓶頸步驟的時間段得到充分的利用。此外,諸如在高溫下的顯影劑和流動模式的特點也減少了加工時間。

一致的過程監控導致高產量

使ACS300 Gen3脫穎而出的是其高度的過程控制。它可以連續記錄所有相關參數的過程數據,如溫度、流量、壓力、體積、清洗率等。數據記錄允許精確調整過程參數、可重復的結果和快速識別潛在的薄弱點。過程變得更加穩定和可重復,產量也可以顯著提高。

亮點

占地面積小,高效的化學品處理,靈活的工藝,配置高,吞吐量的能力,穩定的工藝結果




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