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化工儀器網>產品展廳>化工機械設備>混合設備>分散機>ScIDre HKZ 高溫高壓光學浮區爐

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ScIDre HKZ 高溫高壓光學浮區爐

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北京盈思拓科技(Instonetech) 有限公司是材料研究領域的技術服務提供商。 Instone是Institute、Instrument、Instant的縮寫,代表公司秉承專業、高效的經營理念,為科研用戶提供技術服務。

公司深耕國內科研市場近十年,以中科院等專業院所背景的技術力量為依托, 為國內各大科研機構及材料研究客戶提供科研儀器設備和專業技術服務。公司以代理國內外材料化工方向的儀器設備為核心業務,產品覆蓋材料制備、表征、光、熱、 電、磁等研究領域。

公司在提供專業儀器設備的基礎上,根據客戶的不同需求,提供“從0到1”的咨詢和建設服務(實驗室設備及家具布局、通風、潔凈及氣路等),為新能源電池、電子陶 瓷、半導體材料、高分子材料等用戶提供一站式解決方案。

此外,公司旗下擁有友研精密加工平臺,并擁有專業的技術工程師為實驗設備提供 系統集成服務,提升科研實驗的自動化水平,為用戶提供增值服務。


技術服務、一般項目:技術開發、技術咨詢、技術交流

德國SciDre公司推出的高溫高壓光學浮區法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達300bar,甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導材料單晶,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等。

 

 

┃ 設備技術參數

 

  • 采用垂直式光路設計

  • 采用高照度短弧氙燈,多種功率規格可選

  • 熔區溫度:>3000℃

  • 熔區壓力:10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多種規格可選

  • 氧氣/氬氣/氮氣/空氣/混合氣等多種氣路可選

  • 采用光柵控制技術,加熱功率從0-99% 連續可調

  • 樣品腔可實現低至10-5mbar真空環境

  • 豐富的可升選件



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