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RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備

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RIE等離子刻蝕設(shè)備RIE-200CSAMCO

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

RIE-200C是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) "RIE-10NR "的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進(jìn)行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機(jī)械手,PLC控制全自動(dòng)操作,高性能存儲(chǔ)工藝參數(shù),實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量。

2. 設(shè)備用途/原理

Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵清除有機(jī)污染物

3. 設(shè)備特點(diǎn)

大氣高速傳輸系統(tǒng)該系統(tǒng)配備了一個(gè)大氣盒室和一個(gè)大氣傳輸機(jī)器人,而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動(dòng)加工,并且可以安裝在兩個(gè)盒式箱中。全自動(dòng)操作通過觸摸屏可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)操作,通過PLC控制可實(shí)現(xiàn)過程管理和數(shù)據(jù)記錄


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