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PD-220NL 化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

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1. 產(chǎn)品概述

PD-220NL 是一種負載鎖定等離子體增強化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng),能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。該系統(tǒng)以非常緊湊的占地面積提供了PECVD的所有標(biāo)準(zhǔn)功能。可在直徑220毫米的區(qū)域內(nèi)沉積具有優(yōu)異厚度均勻性和應(yīng)力控制的薄膜,并具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。用戶友好的觸摸屏界面,用于參數(shù)控制和配方存儲。該系統(tǒng)是研發(fā)用薄膜沉積以及試生產(chǎn)的理想選擇。

2. 設(shè)備用途/原理

SiH4-SiNxSiH4-SiO2液體驅(qū)體(SN-2)SiNx。TEOS-SiO2

3. 設(shè)備特點

大加工范圍:?220 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)優(yōu)異的均勻性和應(yīng)力控制工藝穩(wěn)定性和可重復(fù)性堅固的系統(tǒng),低的運行/維護成本用戶友好的觸摸屏界面,用于參數(shù)控制和配方存儲。PD-220NL設(shè)計時尚、緊湊,只需小的潔凈室空間。雙頻(13.56 MHz + 400 kHz)PECVD,用于過程控制。




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