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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>Polaris系列 8英寸 通用物理氣相沉積系統

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Polaris系列 8英寸 通用物理氣相沉積系統

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統

2. 設備用途/原理

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統多種材料膜層工藝能力,低損傷,高深寬比填充能力獨立工藝腔室,多可支持 6 個工藝模塊優異的溫度,顆粒控制能力配置靈活、大產能、低運營成本

3. 設備特點

晶圓尺寸 6、8 英寸適用材料 銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁、鉻等適用工藝 倒裝工藝、金屬電等適用域 新興應用、科研、化合物半導體。物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態原子或分子,或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術, 物理氣相沉積是主要的表面處理技術之一。




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