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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法腐蝕/刻蝕設備>GDE C200系列 高密度 刻蝕機

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GDE C200系列 高密度 刻蝕機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

GDE C200系列 高密度刻蝕機,等離子體源和頻率設計,等離子體密度高,適用于強鍵合材料刻蝕。

2. 設備用途/原理

GDE C200系列 高密度刻蝕機等離子體源和頻率設計,等離子體密度高,適用于強鍵合材料刻蝕刻蝕速率、刻蝕均勻性、PM 周期應用域廣泛,包括功率器件、濾波、射頻和光電等域的多種材料刻蝕工藝種類多樣,包括碳化硅刻蝕、鋁鈧氮刻蝕、PZT 刻蝕、砷化鎵刻蝕、鈮酸鋰刻蝕、氮化硅刻蝕、 磷化銦刻蝕靈活的系統配置,適合研發、中試線、大規模生產線的不同應用適配多種終點檢測方法

3. 設備特點

晶圓尺寸 8 英寸及以下適用材料 碳化硅、氮化硅、鋁鈧氮、鉬、鋁氮、鋯鈦酸鉛、砷化鎵、磷化銦、鈮酸鋰、介質適用工藝 碳化硅通孔刻蝕、碳化硅柵槽刻蝕、鉬-鋁氮/鋁鈧氮刻蝕、砷化鎵背孔工藝、 光波導工藝等多種材料刻蝕工藝適用域 新興應用、集成電路、化合物半導體、科研



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