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NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機,多頻解耦設(shè)計,實現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕。

2. 設(shè)備用途/原理

NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機多頻解耦設(shè)計,實現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕應(yīng)用域廣泛,涵蓋Si power、SiC Power、GaN Power、MEMS、硅光等工藝種類覆蓋道HM刻蝕、CT刻蝕、Spacer刻蝕,后道Via刻蝕、PAD刻蝕靈活的系統(tǒng)配置,適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應(yīng)用采用Clean Mode量產(chǎn),道、后道均可實現(xiàn)優(yōu)異的量產(chǎn)穩(wěn)定性及更高的MTBC

3. 設(shè)備特點

晶圓尺寸 6/8 英寸兼容適用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅適用工藝 鈍化層刻蝕、硬掩膜刻蝕、接觸孔刻蝕、導(dǎo)線孔刻蝕、側(cè)襯刻蝕、回刻、自對準(zhǔn)刻蝕適用域 科研、集成電路、化合物半導(dǎo)體



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