VTC-600GD高真空磁控濺射儀
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 沈陽科晶自動化設備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/12/26 8:42:30
- 訪問次數 630
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產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 綜合 |
產品簡介
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀至多可選配四個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。
主要特點
至多可選配四個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任意調換)。
可制備多種薄膜,應用廣泛。
體積小,操作簡便。
整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。
可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。
技術參數
產品名稱 | VTC-600GD高真空磁控濺射儀 | |
產品型號 | VTC-600GD | |
安裝條件 | 本設備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風裝置:需要 | |
主要參數 | 1、電源電壓:220V 50Hz 2、總功率:<3.5KW 3、腔體內徑:?300mm 4、極限真空8.0x10-5Pa 5、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度) 6、靶槍數量:4個 7、靶槍冷卻方式:水冷 8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同) 9、直流濺射功率:500W(可選) 10、射頻濺射功率:300W 11、載樣臺:?140mm 12、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調 13、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體 14、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,1個流量為100 SCCM,1個流量為200 SCCM | |
產品規格 | ·尺寸: 主機尺寸:850mm×760mm×660mm,整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm; ·重量:190kg |
標準配件
序號 | 名稱 | 數量 | 圖片鏈接 |
1 | 直流電源控制系統 | (可選)套 | - |
2 | 射頻電源控制系統 | 1套 | - |
3 | 膜厚監測儀系統 | 1套 | - |
4 | 分子泵 | 1臺 | - |
5 | 冷水機 | 1臺 | - |
6 | 聚酯PU管(?6mm) | 4m | - |
可選配件
序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | (可選) | - |
2 | 可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | (可選) | - |