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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機> OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發鍍膜(CSS)爐

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OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發鍍膜(CSS)爐

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者:
鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發企業,專注于科研領域,助力科研成果轉化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料、金屬材料、電池研發、地質地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領域的科研成套設備。

我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備,材料科學,質譜儀,電化學,電池,催化

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產品簡介: OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發管式爐, 專門用于 PVD  CSS  法制作薄膜; 其爐管外徑為 11″ ,爐管內載樣盤可放置 3″ 的圓形或 2″×2″的方形基片; OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜( CSS )爐加熱元件為兩組紅外燈管, 分別安裝在腔體頂端和底部, 升溫速率高達 20℃/s ,可迅速使爐腔內溫度升高; 冷卻速率: >10/s ,可在鍍膜后使樣品快速降溫; 溫控系統采用 PID30 段程序化控制, 控溫精度為±1℃, 并且儀器面板上帶有 RS485 接口, 若儀表內配有控溫軟件, 就可將升 溫程序和曲線導出。


產品名稱

OTF-1200X-RTP-II 近距離蒸發鍍膜(CSS)爐

產品型號

OTF-1200X-RTP-II

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:設備需選配自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)


2、電: AC220V 50Hz20A 空氣開關),必須有良好接地


3 、氣: 設備腔室內需充注氬氣(純度 99.99%以上 需自備氬氣氣瓶(自帶 ?6mm 雙卡套接


頭)


4、工作臺:設備為落地式, 占地面積 1m2 以上


5、通風裝置:需要

主要特點

1、為了減小熱輻射和達到快速冷卻的效果,加熱元件被嵌在水冷機構上。


2 、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片(?76mm×0.5mm),使得樣品基片上的溫度更加





均勻。


3 3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上,用于盛放蒸發料。


4 、真空法蘭通過兩個硅膠 O 型圈進行密封,通過機械泵其腔內真空度可達 10-2torr ,通過分子 泵真空度可達 10-5torr


5、兩個真空法蘭都可以通過手動操作進行上下移動。


6、一個數字式真空顯示計安裝在法蘭頂部,可以精 確測量腔內真空度。

技術參數

1 、電源: 單相 AC208V-240V (需 20A 的空氣開關)


2、真空腔體:高純石英管, 外徑 280mm ,內徑 275mm ,高 229mm


3、加熱元件: 兩組 IR 紅外燈管, 額定功率 800W ,總功率 1600W


4、熱電偶: S 型熱電偶 2 個,分別安裝于上下法蘭上


5、工作溫度:兩個加熱區域單獨工作的極限溫度≤650℃,兩加熱區域極限溫差≤350


6、加熱速率: >8/s

7、冷卻速率: >10/s600-100℃)


8、真空法蘭: 316 不銹鋼制作, 配有 1  KF-25 接口、 2  1/4″軟管接頭


9、真空計:數字式真空顯示計

可選配件

1 PC 控溫軟件


2、兩路混氣系統


3、多路浮子混氣系統


4、多路質子混氣系統


5、真空泵


6、水冷機




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