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SE-Mapping光譜橢偏儀03090805

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者：
鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發企業，專注于科研領域，助力科研成果轉化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案，包括：高壓科學材料、金屬材料、電池研發、地質地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領域的科研成套設備。

我們的服務理念是：讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備，材料科學，質譜儀，電化學，電池，催化

 

 

img1

 

 

 

產品簡介： SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化 Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業前沿創新技術，配置全自動 Mapping測量模塊，通過橢偏參數、透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應用OLED，LED，光伏，集成電路等工業應用中,實現大尺寸全基片膜厚、光學常數以及膜厚分布快速測量與表征。

 

 

 

產品型號

SE-Mapping 光譜橢偏儀

主要特點

1、全基片橢偏繪制化測量解決方案

 

2、支持產品設計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量

 

3、配置 Mapping 模塊，全基片自定義多點定位測量能力

 

4、豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力

 

5、采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍

(193-2500nm)

 

6、高精度旋轉補償器調制、 PCRSA 配置， 實現Psi/Delta光譜數據高速采集

7、具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告
 
1、自動化程度：固定角+img5mapping

2、應用定位：檢測型

 

3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R 等光譜

 

4、分析光譜： 380-1000nm(可擴至 193-2500nm)

 

5、單次測量時間： 0.5-5s

 

6、重復性測量精度： 0.01nm

 

7、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mm,微光斑200um

 

8、入射角調節方式：固定角

 

9、入射角范圍： 65°

 

10、找焦方式：手動找焦

 

11、Mapping1 程： 300x300mm

 

12、支持樣件尺寸： 至 300mm

可選配件

3

真空泵

4

透射吸附組件

 

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