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化工儀器網>產品展廳>物理特性分析儀器>測厚儀>塑料薄膜片測厚儀> 薄膜厚度測量系統TF200

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薄膜厚度測量系統TF200

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者:
鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發企業,專注于科研領域,助力科研成果轉化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料、金屬材料、電池研發、地質地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領域的科研成套設備。

我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備,材料科學,質譜儀,電化學,電池,催化

 

 

 

 

 

 

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產品簡介:TF200 薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理,對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200  膜厚度測量系統根據反射回來的干涉光,用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍 1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于 100nm 以上的薄膜,還可以測量n  k 值。

 

 

產品名稱

TF200 薄膜厚度測量系統

產品型號

TF200-VIS

TF200-EXR

TF200-DUV

TF200-XNIR

主要特點

快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高

 

 

 

應用領域

半導體(SiO2/SiNx、光刻膠、 MEMS SOI 等)

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、 聚亞酰胺 ITO )

LED (SiO2 、光刻膠 ITO 等)

觸摸屏(ITO AR Coating 反射/穿透率測試等)

汽車(防霧層、 Hard Coating DLC 等)

 

醫學(聚對二甲苯涂層球囊/壁厚藥膜等)

波長范圍

380-1050nm

380-1700nm

190-1100nm

900-1700nm

厚度范圍

50nm-40um

50nm-300um

1nm-30um

10um-3mm

準確度(取決于材 0.4% 2nm 之間 取較大者)

 

2nm

 

2nm

 

1nm

 

10nm

精度

0.2nm

0.2nm

0.2nm

3nm

入射角

90°

90°

90°

90°

樣品材料

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

測量模式

反射/透射

反射/透射

反射/透射

反射/透射

光斑尺寸(可選微 光斑附件。)

2mm

2mm

2mm

2mm

是否能在線

掃描選擇

XY 可選

XY 可選

XY 可選

XY 可選

 



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