PDMS微流控芯片制備，采用模塑法，需要制備PDMS芯片模具，常見的芯片模具有SU8模具（光刻膠模具），純硅模具，亞克力模具，樹脂模具。也用采用金屬制備模具的，比如鋁材質模具。頂旭微控，專業定制各類微流控芯片模具，實體工廠，歡迎咨詢。

根據芯片結構的不同，可以采用不同的方式加工模具，常見模具的描述如下。

SU-8模具

SU-8制備的模具具備以下優勢：

1、高分辨率和精度：SU-8是高分辨率的光刻膠，使用光刻工藝，可以制備復雜且精細的微通道幾何形狀，從而形成清晰的微流體結構。

2、強韌耐用：SU-8模具具備強韌性和耐久性，能夠經受住反復使用、清洗和處理，不會明顯退化，適合多次澆筑PDMS芯片。

SU-8模具，使用光刻工藝，可以在SU8光刻膠制備的PDMS芯片模具上制造線條寬度大于2微米，并且實現深寬比在1:1至2:1的結構。此外，借助多層光刻技術，還可以在SU-8模具上創建不同高度的微流道結構。

PDMS是制作微流控芯片的主要材料，PDMS芯片制作的主要方式為模塑法，模塑法要求有良好的塑性成型模具，以采用機械加工方式制備的亞克力和金屬模具，在制備大深寬比流道具有很大的優勢，強度較硅模具和SU8模具強，可多次反復重新使用，同時具有較高性價比高。

亞克力模具以制備PDMS芯片的簡易性和經濟性而著稱，通過數控精雕機可高度精確地制備，其表面具有一定疏水性，有助于PDMS材料的輕松脫模，適用于制備流道寬度大于0.1毫米以上、誤差控制在±20微米左右的微通道結構，是一種在精度要求適中的應用中具備成本效益和高效制備的理想選擇。

亞克力模具

1 加工精度：±20um

2 深寬比：可實現可任意深寬比

3 模具表面粗糙度：Ra＜0.3um

4 轉頭尺寸：0.2mm(亞克力），0.3mm(金屬模具）

純硅模具

純硅模具是制備高深寬比微通道的理想選擇，利用硅的干法刻蝕技術，可以輕松實現深寬比達25:1的微通道結構，而且線條寬度可控制在2微米以上，精度誤差僅在±1微米范圍內。 然而，硅表面通常具有強烈的親水性，這可能導致PDMS芯片在脫模時黏附在硅表面，制造過程中的一大挑戰。為解決這個問題，通常需要對硅表面進行疏水修飾，使硅表面變得疏水，確保PDMS芯片能夠輕松從硅模具上脫離，而不受親水性的干擾（具體疏水解決方案可咨詢銷售）

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