1 產品介紹

頂旭桌面光刻機/曝光機/，專為微米級圖案制作而設計，旨在保障圖形轉移精度。設備采用紫外LED冷光源，結合雙非球面石英透鏡，可生成半角＜2°的平行光，相較傳統接觸式曝光機，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準。

該光刻機廣泛適用于微流控芯片、MEMS器件、光電子器件以及聲表面波器件等制備領域。其性能尤其適合高校、科研院所以及企業展開微細加工工藝研究。緊隨現代技術的步伐，桌面光刻機/曝光機的問世為微納加工注入了新的活力，助力客戶在項目目標的實現過程中邁向更高精度、更具創新性的階段。

2. 技術參數

2  曝光光源：紫外LED

2  光源波長：365nm;

2  曝光面積：4英寸、6英寸可選；

2  曝光方式：單面接觸式定時曝光；

2  曝光分辨率：2um；

2  曝光強度：30~120mW/cm²可調；

2  曝光不均勻性：≤5%；

2  光源平行性：≤2°；

2  光源壽命：≥20000h；

2  電源輸入：AC220V±10V，50HZ

2  功率：250W

2  重量：約22kg

2  外形尺寸：382（長）*371（寬）*435（高）

2  工作環境：溫度0℃-40 ℃，相對濕度＜80 %

3. 使用方法

接觸式曝光機操作簡單，易于上手，具體操作如下：

一、曝光前準備工作

1、硅片處理：確保待曝光硅片經過勻膠處理，表面干凈平整，沒有明顯的污漬或破損。

2、選擇光刻板：根據項目需要，選擇合適尺寸的光刻板，本設備兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、設備檢查：仔細檢查設備，確保所有部件處于正常工作狀態，確保操作環境良好。

二、曝光操作步驟

1、安裝硅片：將待曝光硅片平放在設備的載臺上，確保位置準確。

 （硅片放置載硅片槽內）

2、放置光刻板：將光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平穩。

3、設定曝光參數：使用控制面板設置曝光時間和強度，根據具體需求進行調整。

4、啟動曝光：確認參數設定無誤后，點擊啟動按鈕，設備將開始進行曝光。

5、監控曝光過程：在曝光過程中，您可以通過設備界面監控曝光進度，確保一切順利進行。

6、曝光完成：曝光結束后，設備會發出提示，取出硅片和光刻板。

4. 日常維護

1、定期清理平行曝光機的載臺，防止它們因積塵或灰塵而影響加工。

2、保持曝光機的表面清潔，防止灰塵和雜質進入設備內部。

5. 裝箱清單

1、桌面微型紫外光刻機主機 1臺

2、電源線 1根

3、高透4英寸玻璃 1片 （輔助菲林掩膜曝光使用）

4、用戶操作說明書 1份

5、合格證 1份

6、保修卡 1份