聚合物納米粒子生成系統應用領域:

·         顆粒生產PLGA、PEGDA、聚苯乙烯等

·         藥物控釋/靶向給藥-新應用-可生物降解納米顆粒的生成

·        診斷試驗和分析

·       油類化學品-提高采收率，阻垢劑

·         涂料和清漆用粘合劑

·       放射性廢物處理

·         催化劑

聚合物納米粒子生成系統主要優勢：

·         寬的可控粒徑范圍從50 nm到500 nm

·         Cv值介于20%和30%之間的高度單分散顆粒

·       精確控制顆粒的尺寸、形狀和形態

·         產量高達每天幾克（TelOS大型微液滴系統）

·         批間重復性高，試劑消耗少

·         模塊化系統

·         各種應用領域都易于放大

·         無脈動穩定液體混合

·         高混合效率保證產品收率高

·         非常耐化學腐蝕

·         模塊化，易于使用，快速放大

主要參數：

·        寬的可控粒徑范圍從50 nm到500 nm

·         Cv值介于20%和30%之間的高度單分散顆粒

·         樣品體積：從0.5毫升到幾升

·         化學耐性：非常高（浸潤材料：PEEK, PTFE和玻璃）

·        壓力泵壓力范圍：0-10 bar

·        流速范圍；5 nL/min 至大于100 mL/min (取決于流體性質)

·         聚合物納米粒子生成頻率：標準系統通常高達10MHz，生產系統通常高達1GHz（取決于試劑和粒徑）