MKS ASTRON2L RPS 半導體遠程等離子源是經過長期驗證的具有優良性能和高可靠性的高性能遠程等離子體源，是沉積和蝕刻室清潔工藝的關鍵子組件，消除了工藝副產物從室壁積聚，增加工藝工具的壽命，并減少薄膜污染的來源。ASTRON Series RPS 廣泛應用在半導體各制程的清潔環節中，可以以各種不同的配置安裝在硅晶圓或大面積基板工藝室上。ASTRON Series RPS效果良好且更加經濟可靠，為CVD室清潔，FPD（平板顯示器）提供所需的反應氣體室清潔，太陽能室清潔，光刻膠堆灰，氧化，氮化和化學消減。

MKS ASTRON2L RPS 半導體遠程等離子源技術參數

設備型號：Astron AX7657-85，P/N 0190-41326W

AC輸入： 208V ~，3 phase ~，50/60Hz，30A

散熱方式：水冷散熱

水冷水壓：100 PSIG（Max.）

通信接口：RS-232 / Cust I/O