實驗室濺射儀 濺射靶材鍍金屬薄膜

小型濺射儀（Sputtering System）是一種利用濺射技術制備薄膜的設備，主要用于制備和研究金屬、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。

它通常由四個主要組件組成：真空室、濺射槍、靶材和控制系統。真空室是封閉的金屬或玻璃盒子，用于維持真空環境，以避免雜質和氣體干擾制備過程。濺射槍是用于向靶材表面發射離子的設備，它可以控制濺射速率和角度，從而控制薄膜的厚度和均勻性。靶材是被準備薄膜所需的原材料，其材料和形狀根據要制備的薄膜類型而變化。控制系統是用于控制整個設備的電子和電氣系統，包括真空泵、用于創建和維持真空的電子控制器和電源、濺射槍控制器和監控器等。

小型濺射儀通常用于研究實驗室或小批量生產，它具有制備穩定、純凈、均勻膜的優點，可以制備幾納米到數百納米之間的薄膜。它也被廣泛應用于電子器件、太陽能電池、顯示器件、硬盤驅動器等領域。

實驗室濺射儀 濺射靶材鍍金屬薄膜

鄭州科探儀器設備有限公司是集開發、制造、經營為一體的材料設備創新型企業，如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室 及科學高校，科探儀器已經成為老師 同學和信任的品牌。

公司以科技創新為主，服務社會為宗旨，積極設計開發新型材料制備設備，奉獻于教育和科學，經過長期的研發和不斷地技術積累，擁有熱工，制造，控制相關技術，為化學，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯合，形成了有效的信息，技術交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！

目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品，產品囊括實驗電爐 CVD供氣系統 等離子清洗機 小型離子濺射儀 小型蒸鍍儀 石英管真空封口 真空探針臺 半導體等。 主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。 公司與國內高校，科研院所有多層次的合作關系，建有開放實驗室，相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發。

我們秉承公司的發展理念，依靠嚴謹的技術研發能力，科學合理的生產工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產品質量和服務工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。