納米激光光刻系統(tǒng)
- 公司名稱 蘇州華維納納米科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/25 16:46:18
- 訪問(wèn)次數(shù) 1609
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公司簡(jiǎn)介:
蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業(yè)園區(qū)創(chuàng)業(yè)人才項(xiàng)目"的支持下，于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司，公司由歸國(guó)和國(guó)內(nèi)的高層次人才組成，公司設(shè)有博士后流動(dòng)站。公司曾先后獲得國(guó)家科技部（國(guó)家重大大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng))和姑蘇、江蘇省雙創(chuàng)人才、以及蘇州x-nano大科學(xué)裝置等項(xiàng)目支持，并于2012年6月 完成首輪風(fēng)險(xiǎn)融資，并成功研發(fā)出擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的三大系列新型納米激光光刻系統(tǒng)，2015年被認(rèn)定為高新技術(shù)企業(yè)。
公司近年來(lái)，不斷加大研發(fā)力度，已經(jīng)定型了LDW-P 和LDW-L兩大系列新型激光直寫設(shè)備，實(shí)現(xiàn)了激光直寫設(shè)備的更新?lián)Q代。該新型激光直寫采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫設(shè)備的應(yīng)用范圍。
無(wú)掩模納米光刻系統(tǒng)，激光直寫設(shè)備
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 | 激光波長(zhǎng) | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 刻寫范圍 | 1500umx1500um |
納米激光光刻系統(tǒng)是專門為科研團(tuán)隊(duì)和加工平臺(tái)設(shè)計(jì)的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺(tái)的移動(dòng)范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號(hào)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護(hù)簡(jiǎn)單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設(shè)計(jì)和制造。
新概念技術(shù)：華維納LDW-P系列納米激光光刻系統(tǒng)通過(guò)激光與材料的非線性相互作用，成功突破了光學(xué)衍射極限的限制，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直徑可達(dá)50nm。
多受體材料：華維納LDW-P系列通過(guò)高精度的功率調(diào)制（＜1‰），可兼容包括金屬薄膜、無(wú)機(jī)相變材料、光刻膠等多種受體材料。
可靠易用性：華維納HWN-P擁有強(qiáng)大的軟件功能，支持標(biāo)量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式，供用戶根據(jù)不同的刻寫場(chǎng)景而選擇。另外，LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析，使用戶一站式完成設(shè)計(jì)、刻寫、分析等步驟， 大大提高了工作效率。
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