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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機> VIL1000激光干涉光刻機

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VIL1000激光干涉光刻機

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 上海納騰儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2024/6/17 18:29:17
  • 訪問次數 1497

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上海納騰儀器有限公司是從事掃描探針顯微鏡(SPM)銷售的專業公司。公司作為俄羅斯NT-MDT在中國大陸及港、澳地區的經銷商(RESELLER),在掃描探針顯微鏡(SPM)領域有多年的實踐經驗,擁有一支成熟的銷售、技術團隊,迄今已累計銷售超過100臺(套)儀器。



掃描探針顯微鏡光學顯微鏡納米光學輪廓儀教學型凝固點測定儀日本原裝桌面式隔振平臺

VIL1000激光干涉光刻機

VIL1000激光干涉光刻機

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1、 可實現同一晶圓上不同納米結構的分區光刻;

2、 制作各種一維、二維納米圖案;

3、 最小線寬低于50nm

4、 與其他同類設備的功能對比圖如下:



電子束直寫

激光直寫

紫外光刻機

激光干涉光刻機

設備示例




代表廠商

德國的RaithVistec, 日本的JEOLElionix

海德堡和Raith

Eulitha

InterLitho

代表性產品型號

Raith

EBPG Plus

海德堡

DWL 66+

Eulitha

PhableR 100

VIL1000


主要用途

高分辨率掩模版制造和納米結構的制備

對分辨率要求不高的掩模版制造和納米結構制備

分辨率適中的納米結構制備

大面積、低成本、高通量制備高分辨率周期性納米結構,用于微納光學、生物芯片等新興應用


刻寫的最小物理線寬

<10nm

~300nm

60nm

40nm

價格和維護成本

較低

自動化程度

全自動

全自動

部分手動

全自動

設備效率

需要掩模

特征尺寸調制難度

難,樣品需要重新刻寫

難,樣品需要重新刻寫

難,需要重新刻寫模板

容易,幾分鐘可實現








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