PICOSUN™R-200標準型ALD系統是ALD科研  設備市場。它已經成為一些創新公司 和研究機構的研發工具。

靈活的設計確保沉積高質量的ALD薄膜，超靈活的系統配置也能滿足用戶未來的需求和應用。的熱壁設計、*獨立的前驅體管 路和特殊的載氣設計，使得無顆粒沉積廣泛應用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的  材料。即使在挑戰性的多孔材料、超高深 寬比和納米顆粒表面沉積， 系統都能實現好的均勻性， 這些都歸功于我們的技術  Picoflow™。PICOSUN™R-200標準型系統配備功 能強大和易于更換的液體、氣體和固體前驅體 源。系統可集成手套箱， 粉末反應腔和各種在 線分析系統， 使您的研究變得高效和靈活。 即 使將來您改變研究領域， 它仍然會是好  的幫手！

技術參數：

襯底尺寸和類型

•   50-200 mm/片

•   156 mm x 156 mm太陽能硅片

•   3D 復雜表面襯底

•   粉末與顆粒

•    小批量

•    多孔， 通孔， 高深寬比（HAR）樣品 （高可達1:2500）

工藝溫度

•    50 – 500°C

沉積材料

•    Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金屬 Pt 或者 Ir

基片加載

•    氣動升降，手動加載

•    預真空室安裝磁力操作機械手（Load lock）

前驅體

•    液態， 固態， 氣態， 臭氧源

•    4根獨立源管線， 多加載6個前驅體源

選件

•     PICOFLOW™擴散增強器， RGA、N2發生器、尾氣處理器、定制設計，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）