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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>去膠機>SPE-201P 微波等離子去膠機 ICP RPS

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SPE-201P 微波等離子去膠機 ICP RPS

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東莞市晟鼎精密儀器有限公司致力于為用戶提供專業的表面處理與檢測整體解決方案,集研發、設計、生產、銷售及產業鏈服務為一體的企業。

是接觸角國家標準(GB/T 30693-2014)參與制定者,擁有行業內等離子實驗室,與華南理工大學創建等離子技術聯合實驗室,并擁有10多位行業技術專家。團隊成員以多年從事材料表面、電子電氣、工業自動化等領域研發的博士、碩士、學士為主,本科學歷以上占比50%,涵蓋業內華南理工等各大高校人才,打造業界的研發團隊。

Apple、華為、小米、OPPO、京東方、富士康、比亞迪、藍思、伯恩、兆馳、三安光電、清華大學、北京大學、復旦大學等企業及科研院校長期合作伙伴。

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接觸角測量儀,等離子清洗機,半導體快速退火爐、USC干式超聲波,靜電消除器

達因特半導體微波等離子去膠機是一種低壓微波等離子去膠系統,應用于晶圓光刻膠去膠、晶圓表面活化。自由運動的電子產生Plasma進入腔體所在的料盒進行工藝清洗。通過對真空腔體壁上的窗口施加頻率為2.45GHz的微波可以產生大量的持續Plasma。腔體適用于不同尺寸的料盒。微波等離子去膠機可以提供快速的無損傷的等離子去膠效果。系統的等離子去膠效果是由被激活的自由基穿過料盒來實現的。

v 產品放置治具靈活多變,可適應不規則的產品。

v 無電極微波設計,可滿足軟性產品處理需求。

v 低溫等離子體,避免對產品產生熱損傷。

v 電中性等離子體,對產物無電破壞。

v 配置磁流體旋轉架,增加Plasma處理均勻度。

v 高效、均勻的微波等離子輸出,保障蝕刻效率。







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