襯底尺寸：標準尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)

工藝溫度：溫度范圍：RT~500°C （可定制）

前驅體路數：支持6路前驅體氣路（可定制)，包含固、液態前驅體源瓶

加熱系統：可加熱溫度范圍：RT~150℃

反應物路數：支持2路反應物氣路（可定制）

載氣：標準：N₂, MFC 流量控制（可定制）

等離子體系統：支持4路等離子體氣體（可定制）

射頻功率：0~1000W

壓力監測：雙薄膜規組合（耐腐蝕)，0.005Torr - 1000Torr

本底真空度：<5x10^-3 Torr

真空系統：標準油泵

控制系統：19寸顯示器，支持觸控工業級嵌入式工控機，高可靠性，支持擴展

操作系統：Win7 操作系統，工業級可編程邏輯控制器，支持現場總線與實時多任務處理操作

高溫加熱模塊：獨立的源瓶加熱模塊，可支持RT~200℃

工藝

可沉積薄膜種類和應用場景包括：

• High-K介電材料 (Al₂O₃, H₂O, ZrO₂, PrA1Q, Ta₂O₅, La₂O₃);

• 金屬互聯結構 (Cu, WN, TaN, Ru, In);

• 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO₂):

• 生物醫學涂層 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);

•金屬(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni）;

• 壓電層 (ZnO, AIN, ZnS);

• 透明電學導體 (ZnO:Al, ITO);

• 光子晶體(ZnO, TiO₂, Ta₃N₅);等

機架

•外殼采用碳鋼烤漆及圓角處理，輕便美觀，拆卸方便，符合人體工學

•顯示屏360度自由旋轉，可調視距、視角、自由懸停

控制系統

• 采用 PLC 對設備進行實時控制，同時實現基于Windows7 操作系統的人機界面互動，支持歷史數據、工藝配方、報警及日志的儲存和導入導出的功能

• 設備支持“一鍵沉積”功能，點擊運行按鍵即可自動完成真空抽取、升溫、材料沉積、降溫等一系列步驟。實現單一或多層材料的沉積；提供獨立的手動操作頁面，支持手動開關閥門的操作，人機交互同時支持鼠標、鍵盤和觸摸的輸入方式

• 設備運行軟件提供用戶權限管理功能，可根據用戶級別設定使用權限，防止誤操作，保證設備和人身安全

• 設備運行軟件提供邏輯互鎖功能，防止用戶誤操作，并彈出信息對話框進行提示

• 設備運行軟件集成安全及參數配置、IO互鎖列表信息功能

真空系統

· 真空測量采用雙真空壓力計組合方式，工藝數據更真實，更迅速，更精確，為工藝人員提供井真的數據采集來源，為工藝的可重復性提供了可靠的保障

應用領域

1.納米材料：ALD 技術沉積參數高度可控，可在各種尺寸的復雜三維微納結構基底上，實現原子級精度的薄膜形成和生長，可制備出高均勻性、高精度、高保形的納米級薄膜。ALD具有高致密性以及高縱寬比結構均勻性，為MEMS機械耐磨損層、抗腐蝕層、介電層、憎水涂層、生物相容性涂層、刻蝕掩膜層等提供優質解決方案。ALD技術沉積參數高度可控，可通過精準控制循環數來控制MTJ所需達到的各項參數，是適用于MTJ制造的工藝方案之一。ALD技術可通過表面修飾，改善納米孔的生物相容性，同時提升抗菌抑菌和促進細胞合成。

2.太陽能電池：ALD基材料在c-Si太陽能電池中的應用始于Al₂O₃，Al₂O₃是一種非常有效的表面鈍化層，被發現可以顯著提高c-Si太陽能電池的效率并應用于大規模產業化中。此后的研究中，ALD的應用研究從表面鈍化層擴展到載流子傳輸材料[8]。

3.催化：ALD技術很容易地控制納米顆粒的大小、孔隙結構、含量和分散，有效設計出核殼結構、氧化物/金屬倒載結構、氧化物限域結構、具有多金屬管套結構和多層結構，且自限制特性可實現催化材料在高比表面材料上的均勻和可控沉積，實現一步步和“自底向上”的方式在原子層面上構建復雜結構的異質催化劑材料而得到廣泛研究。利用ALD技術具有飽和自限制的表面反應特性，有效抑制金屬有機化合物、配體的空間位置效應，天然的將金屬中心原子互相隔離開，抑制金屬原子聚集，合成單原子催化劑。利用ALD技術有效調控金屬與載體間的相互作用的特性，可獲得單金屬催化劑，如Ru、Pt、Pd等貴金屬。利用ALD技術能調控兩種金屬元素生長順序、循環周期數的特性來精準得到雙金屬納米催化劑，合成原子級精準的超細金屬團簇，如PtPd、PtRu、PdRu等雙金屬納米顆粒。利用ALD技術制備金屬氧化物，不僅可以制備性能更加優良的多相催化劑，而且可以對負載型催化劑進行改性，達到修飾、保護催化劑的目的。

4.鋰電池：ALD在鋰離子電池中的應用特點：（1）電極材料的制備和改性；（2）陰極材料上的保護鍍膜；（3）陽極材料上的人造固體電解質相間（SEI）；（4）鋰金屬陽極鈍化和防止枝晶生長；（5）ALD作用的固態電解質（SSE）；（6）隔離膜上的保護涂層

原速科技ALD技術在鋰電池領域的應用主要有以下幾個方面：

a、鋰電池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸潤性，耐壓性，熱收縮性能

b、鋰電池正極包覆，改善電池的倍率性能，循環性能等

c、鋰電池負極包覆，改善電池的倍率性能，循環性能以及安全性能

5.光學鍍膜：ALD薄膜以飽和吸附的layer-by-layer生長模式，可在結構復雜的幾何表面，如大曲面及高縱深比深孔結構，大面積形成高均勻性薄膜，且膜層相較于PVD膜更為致密，在界面處的結合力更強，更適用于未來工業界精密光學器件的制造。

6.生物醫療：ALD可以通過低溫沉積形成非常致密的保護膜，由于是納米級別的膜厚其本身對醫療設備也不會造成影響，沉積ALD涂層后可以大幅度增加植入設備的壽命以及安全性，也有可能有效的減少更換手術的頻率；同時ALD有多種材料都具有生物相容性，這種涂層對人體組織是沒有任何細胞毒性的，這使得在再生醫學領域中，用于對細胞構建生物相容性底物的制備時，ALD沉積表面涂層能滿足對新型生物相容性材料的需求；在藥物方面，ALD涂層可以有效的保護顆粒不受周圍空氣和水分的影響，從而大幅度的延長藥物的保質期。

7.OLED：幾十納米厚度的ALD封裝膜甚至可媲美傳統OLED封裝技術的阻隔效果，同時具有良好的透光率、熱導率、機械強度、耐腐蝕性及與基底的粘結性等性質；ALD封裝薄膜因其納米級的膜厚，可以實現很大程度上的彎曲并保持封裝效果不變，這一特性可兼容柔性OLED器件封裝，真正做到顯示屏的可折疊、卷曲；ALD薄膜優異的保型性使其在一些復雜形貌和三維納米結構的LED表面實現出色的鈍化保護層，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉積鈍化膜還可以很好地修補被等離子刻蝕造成的破壞性表面，可有效降低漏電流，顯著提高LED效率。