鄭科探小型熱蒸發鍍膜儀

通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對大部分金屬（金，銀，銅，鉻，鎳等）和有機物進行均勻蒸發沉積。真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

主要特點/優勢：

★     玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察；

★     復合分子泵和直聯旋片泵，大抽速準無油真空系統（分子泵抽速≥400L/S）；

★     兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計；

★     專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；

★     可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；

★     襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；

★     可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻

★     可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO₃, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

★  7寸顯示器定時定點調節電流，達到控制功率效果

★  具有記憶儲存功能，直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果

★  配置了靶臺擋板，可手動調節或自動調節擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果

鄭科探小型熱蒸發鍍膜儀