HMPS-2060P 微波等離子體 CVD設備

◆微波反應腔新型設計，功率密度大。

◆產品沉積速率快、沉積質量高。

◆開關型微波電源，微波輸出穩定性高。

◆適合光學、電子、工具級金剛石膜或單晶、石墨烯等的沉積，材質表面處理、低溫氧化物的生長等。

◆性能*，安全、可靠性強、重現性好，操作簡便。

◆多參數實時監測、采集與記錄，PLC屏幕控制，多重聯鎖保護。

HMPS-2060P 微波等離子體 CVD設備

（1）型號HMPS-2060S

（2）電源AC380±10% V 三相五線制 50Hz，額定輸入＜10KVA

（3）微波輸出功率0.5~6kW 連續可調

（4）功率穩定度優于2%

（5）紋波≤1%

（6）微波頻率    2450MHz±50MHz

（7）測溫方式     紅外300~1400℃

（8）極限真空度6×10-6torr

（9）腔體內工作壓力   7torr~250torr

（10）樣品臺 Φ60mm

（11）樣品臺軸向調節范圍 0-60mm

（12）工作氣氛五路（可用戶定制）

（13）微波泄漏值 ＜5mW/cm2

（14）工作環境  溫度15-40℃，相對濕度≤60%，無腐蝕性氣體

（15）冷卻水＞22L/Min